全球半導體曝光設備王者ASML，起點是一座漏水棚子

大家都知道荷蘭商艾司摩爾 (ASML) 是全球先進晶片製造設備設計和供應商中無可爭議的領導者，其包括台積電、英特爾、三星等產業大廠所生產的最先進半導體，都高度依賴這家成立於 1984 年公司的設備。而就 ASML 的歷史來說而言，公司至今亮眼的表現一切都是要從一個漏水的棚子開始的。

Tom′s Hardware 報導，當今曝光機領域的王者 ASML，最初是由電子界家喻戶曉的飛利浦公司與先進半導體材料國際公司（ASMI）合創。兩家公司願景是建立專注曝光設備的公司，因這是不斷成長的市場。

然而，ASML 的第一個基地就是前面提到的漏水棚子。漏水棚子並不是一個幽默的名字，而是真的會漏水的棚子。該建築位於恩荷芬 ( Eindhoven) 的 Strijp-T 的原飛利浦園區，一張舊照片就顯示，當時這個漏水棚子真的是一個搖搖欲墜的單層預製建築，它與飛利浦 TQ 大樓的一樓相連，而飛利浦 TQ 大樓是該公司工業電子部門的所在地。

報導表示，在 1970 年代初開始的研發基礎上，ASML 團隊很快就實現了其首個系統，即 PAS 2000 stepper 曝光機。另外，幸運的是，對於 ASML 和所有來自漏水棚子的員工來說，不久之後，公司的業務就蓬勃發展，並於 1985 年遷至專門建造的辦公室和工廠。巧合的是，ASML 與鏡頭製造商卡爾蔡司的合作關係也在此時簽署，並持續至今。

1990 年代，ASML 宣布推出其突破性平台，就是 PAS 5500 曝光設備。憑藉這一成功，ASML 憑藉著經典曝光設備的業界領先的生產力和分辨率，最終在荷蘭和紐約證券交易所成功上市。之後，第一台採用革命性雙級技術的 Twinscan 機器於 2001 年推出。如今，ASML 憑藉其 EXE 平台和 High-NA 技術再次突破了競爭對手無法突破的界限。

(首圖來源：ASML)

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