《路透社》報導，美中科技戰影響下，衝擊到南韓記憶體製造商 SK 海力士中國無錫廠擴產計畫。原本 SK 海力士希望中國無錫廠採用含極紫外光曝光設備 EUV 先進製程生產記憶體，以因應市場需求，然而美國政府限制 EUV 設備進入中國，擴產計畫陷入膠著。
美中科技戰影響，美國政府認為 EUV 曝光設備協助中國提高國防軍事力量，禁止設備輸往中國。對是否阻止 SK 海力士中國無錫廠使用 EUV 光設備，雖然美國官員沒有正面回應，仍表示拜登政府專注阻止中國利用美國和盟國設備與技術，開發先進半導體助中國軍事現代化。
SK 海力士中國無錫工廠對該公司及全世界記憶體產業來說都相當重要，因占總產量一半，且佔全球 DRAM 供應量 15%。DRAM 產業 2021 年市場需求較前一年提升 19%，任何變動都會使全球市場動盪。SK 海力士無錫工廠原本要採用含 EUV 曝光設備的先進製程，2~3 年內生產更先進 DRAM，不過現在可能面臨難題。
知情人士透露，SK 海力士無錫工廠無法使用含 EUV 曝光設備的先進製程後，SK 海力士與三星與美商美光的競爭會居劣勢。競爭對手預計分別在南韓及台灣生產據點採用含 EUV 曝光設備的先進製程生產 DRAM，不僅 SK 海力士公司內部嚴重關切，甚至高層也與美國積極討論。SK 海力士發稿前並沒有正式聲明，僅指公司盡最大努力回應市場和客戶需求。
報告引用市場分析師說法，即便 SK 海力士將 EUV 曝光設備運往中國無錫工廠，使用者還是 SK 海力士，不過這其實與中國企業企圖輸入 EUV 曝光設備相差無幾。市場研究及調查機構 VLSIresearch 執行長 Dan Hutcheson 說，SK 海力士目前被夾在美中角力之間，美國政府禁止輸出高科技產品到中國的禁令，幾乎涵蓋外國與中國企業所有範圍。一旦 EUV 曝光設備輸入中國，美國擔心不知道會落到誰手上，且中國總能把 EUV 曝光設備拿去做想做的事。
(首圖來源：SK 海力士)
