濾能董事長黃銘文今日表示，當半導體走向 3 奈米先進製程，對於無塵室 AMC 微污染控制的要求就越高，因此隨著半導體產業持續擴廠，濾能未來營運都能維持樂觀成長態勢，預計今年 6 月下旬掛牌上櫃，並將在明日舉辦業績發表會。
黃銘文表示，濾能擁有 AMC 微污染控制的技術，所謂的 AMC 就是氣態分子污染物，當半導體先進製程微縮演進，AMC 防治已成為客戶半導體先進製程的標準配備，目前客戶有全球晶圓代工大廠、面板廠及記憶體廠等，其中以 12 吋先進製程供應量為大宗，供應各種客戶指定規格的需求。
黃銘文指出，濾能提供半導體無塵室懸浮氣態污染物（AMC）的解決方案，包含 AMC 污染量測諮詢、AMC 污染防治工具銷售與 AMC 循環經濟服務，並在模組化學濾網應用領域有多項產品專利，以在地化優勢取得客戶認可，目前在台灣 10 奈米以下先進製程市占率將近一半。
濾能總經理黃寶氣表示，半導體製程中，晶圓缺陷一直是影響產品良率提升的一項重要因素，尤其是來自環境的懸浮物，像是微塵、溶劑、氣體分子等都是晶圓缺陷的來源之一，而無塵室內的微量空氣污染足以影響製程和產品良率，造成的影響損失難以估算。
黃寶氣指出，目前半導體製程 25 奈米以上，多數為 PlanarFET 平面結構方式，而三星和台積電的 7 奈米和 5 奈米製程，都是使用鰭式電晶體（FinFET）的立體架構，當前微縮製程到 3 奈米，必須改用 GAAFET（Gate-All-Around，GAA）突破新的物理極限， 而 GAA 架構對 AMC 更敏感。
黃寶氣說明，晶圓代工廠主要有四大場域會使用到濾網，第一是外氣空調箱，主要安裝在廠房對外的抽風口，為代工廠最外圍防護衣，濾網消耗量大但競爭者眾多，為紅海市場，但大廠產品防護期間偏短，僅 1~2 個月，相較濾能產品則有近半年效期，現已開始進行認證。
黃寶氣補充，第二是無塵室風機濾網機組，主要考量風量和系統壓損後，選擇最佳化馬達風扇匹配，設置無塵室天花板過濾空氣中微粒；第三是機台覆蓋罩用濾網；第四是機台端濾網，多由原廠供應，而濾能 AMC 污染防治主要應用在無塵室風扇過濾單元（FFU），並已逐步發展至全區防護。
黃寶氣分享，濾能 2021 年有 60% 業績來自既有客戶的耗材更換，並有 30％ 的業績是新廠的 AMC 污染防治佈建，還有 10% 的安裝服務，有別於其他廠商，濾能可以做到 24 小時提供服務，因此成為當年切入晶圓代工大廠供應鏈的主要原因。
黃寶氣強調，濾能擁有 TAF 17025 專業實驗室及多領域研發團隊，能在第一時間協助客戶發掘環境濃度問題，並提出客製化防治方案，2021 年因應主要客戶加速建廠及廠區維護需求，動工興建南科廠房，導入自動化設備，提升自製比重，未來將做為再生濾網發展基地，加速研發次世代新品。
濾能 2021 年營收 8.29 億元，年增 28.01%，營收成長主要來自客戶先進製程產能擴充帶動 AMC 污染防治產品需求所致，毛利率 28.72%，稅後淨利 0.97 億元，EPS 5.46 元。法人表示，隨著晶圓代工大廠持續擴產，濾能今年可望維持 20% 以上的營運成長。
（首圖來源：科技新報）
