外媒引用晶圓代工龍頭台積電先前的說法報導指出，即使沒有使用 ASML 最新的 High NA EUV 曝光機，台積電也能做出很好的先進製程。而且，High NA EUV 曝光機價錢太昂貴，使得該設備在 2026 年之前沒有太大的經濟意義。然而，現在看來，台積電可能正在重新考慮這一立場，這情況是來自於台積電總裁魏哲家日前祕密訪問 ASML 總部所產生。
根據 wccftech 的報導，台積電的競爭對手英特爾將自己的生存賭在了在使用 High NA EUV 曝光機的晶圓代工業務領域上。事實上，首批幾套 High NA EUV 曝光機都被英特爾所採購，英特爾預計將在即將推出的 intel 18A 節點製程上進行參數試驗與技術學習， 然後將其正式納入在 intel 14A 的生產製造流程當中。
相較之下，台積電先前公開表示，其目前的標準 NA EUV 曝光機系列，當前仍可以支援生產到 2026 年。而其即將採用奈米片的晶體管設計的 A16 節點製程也將採用這樣的生俺流程。希望透過稱之為「超級電軌」的背面供電全新技術，藉以提高其生產出來的晶片在人工智慧工作執行上的效能。
然而，在 5 月 26 日，台積電總裁魏哲家罕見沒有參加 2024 年技術論壇台北場的活動，而是祕密訪問了ASML位於荷蘭的總部。根據《韓國商報》報導，ASML 執行長 Christopher Fuke 和其雷射光源設備供應商 TRUMPF 執行長 Nicola Leibinger-Kammüller 在社群媒體貼文中提出了魏哲家的行程內容。這使得市場傳出，在英特爾拿下首批幾套的 High NA EUV 曝光機之後，魏哲家這次的密訪動作就是表達了也希望能獲得新設備的立場。
報導指出，根據台積電的既定計畫，台積電預計在 A16 製程技術後的產品才考慮採用 High NA EUV 曝光機。然而，魏哲家密訪 ASML 總部的動作引發了大家的議論，特別是因為它表明有修正計畫的可能性，並且是對台積電當前發展路線的更廣泛的重新思考。雖然，即便獲得了 High NA EUV 曝光機，也不代表會在當前的製程上來使用。作為訓練與技術發展關鍵設備，提早獲得也不是不可能的方向。因此，接下來的發展情況，勢必還必須要持續地進行關注。
(首圖來源：imec 提供)
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