美國拜登政府 1 月 27 日與日本、荷蘭達成一項協議，三方將共同限制對中國出口部分先進的晶片製造設備，協議主要是遏制中國打造國產晶片的雄心，預估這項協議將對日本和荷蘭的廠商造成影響，包括艾司摩爾（ASML）、Nikon 和東京威力科創（Tokyo Electron Ltd）等大廠。
根據知情人士表示，美日荷針對部分先進晶片製造設備出口限制達成協議，但並未公開協議限制的內容，並須等日荷兩國完成法律工作，預估落實禁令需要數個月的時間，而白宮國家安全委員會發言人與荷蘭貿易部發言人都不予置評。
彭博報導將這項協議形容為「拜登的勝利」，因為美國商務部 2022 年 10 月發布禁令時，揭櫫目標為以限制中方發展超級計算機和半導體開發的技術，並避免中方透過晶片發展大規模毀滅性武器等軍事系統。
日荷兩國跟進制裁後，半導體設備同樣須配合「non-planar transistor architectures」設備出口標準限制，意即 16/14nm及 以下等「非平面式電晶體架構」製程設備禁止輸入中國，預期日企 TEL、SCREEN、Hitachi High-Tech、Kokusai、Nikon、Canon，荷企 ASML、ASM 等皆將受到影響。
如此一來，全球前八大半導體設備商都將遵循美出口管制，暫緩設備出口至中國，除了設備出口限制之外，日本、荷蘭工程人員恐怕也將預防性撤出晶圓廠房，等待美商務部審查完成後再返回產線工作。
TrendForce 認為，由於目前半導體曝光機台主要由荷商 ASML 及日商 Nikon、Canon 提供，尤其 EUV 機台由 ASML 獨供、DUV immersion 設備則由 ASML 及 Nikon 寡占，因此在荷蘭及日本宣布跟進美出口管制後，曝光機將成為這次管制影響程度最廣泛且深遠的項目。
（首圖來源：ASML）
