不論是極紫外光微影曝光設備 (EUV) 或是深紫外光微影曝光設備( DUV)，當前都被廣泛用在邏輯晶片與記憶體生產上，可說是當前半導體製程中不可或缺的關鍵設備。而在這些設備的生產當中，荷蘭商艾司摩爾 (ASML) 則在其中扮演了至關重要的角色。只是，當時落後競爭對手的 ASML，如何能成為今天半導體微影曝光設備上的霸主，其關鍵就在當年的 PAS 5500 機台上。
ASML 表示，1991 年 ASML 首部 PAS 5500 機台完成出貨之後，直到今天，PAS 5500 仍是 ASML 最長青的微影設備，也是 ASML 用途最廣泛的產品線之一。當時在 PAS 5500 出貨之前，ASML在 半導體微影市場位居第三，遙遙落在競爭對首 Nikon 和 Canon 之後。然而， PAS 5500 的成功很快的讓 ASML 晉升第二大微影設備商，並為 ASML 日後在微影市場的全球發展打下基礎。
至於，為什麼叫做 PAS 5500 呢？PAS 5500 來自 1970 年代，當時飛利浦的研究員開始實驗一系列的設備，而 PAS 5500 的全名 「the Philips Automatic Stepper (PAS)」。而為了紀念這部機台的來源，也代表 ASML 與飛利浦長期的合作關係，因此取名為 PAS 5500。
ASML 強調，問世的 30 年後，每部 PAS 5500 都在半導體製程中擁有自己的故事。舉例來說，已經 25 歲的 PAS 5500/275，多年來被應用在記憶體 (Memory) 以及 RF 模組 (Radio Frequency Module) 製程中，但它最近剛被翻修，並重新販售到 VR 技術製程的最前線，展開新生活。僅管 PAS 5500 已經不再被應用在最先進的製程中，但它們具備成本低、體積小、簡單以及穩定性，在許多利基 (Niche) 應用市場中是首選設備。為了持續支援使用這部機台的客戶，當前 ASML 已將相關的客戶支援服務期限延後至 2030 年以後。
(首圖來源：官網)
