箝制中國半導體，荷蘭再限制2款DUV出口

荷蘭政府在 6 日的最新公告指出，荷蘭政府以國家安全的名義，將擴大要求半導體設備製造設備商艾斯摩爾（ASML）的 2 款深紫外線曝光機（DUV）出口，須獲得出口許可證，這些工具用於製造電腦晶片。

根據彭博社的報導，這套以國家安全名義實施的新規定於本月的 7 日生效。而美國先前曾表示，有權監管這些半導體製造設備，作為其限制中國晶片製造商獲取先進技術、減緩其技術和軍事進步的行動的一部分。如今，荷蘭的最新行動希望與美國制裁政策一致。

荷蘭貿易部長 Reinette Klever 表示，做出這一決定是為了我們的安全。我們看到，由於技術的發展，這些特定生產機器的出口存在更多的安全風險。而在此之前，荷蘭政府已限制ASML爾對中國出口先進設備。至於，現在最新規定將影響另外兩種工具，包括 TWINSCAN NXT：1970i 和 1980i 兩種 DUV 系統，以用於生產電腦晶片。

而 ASML 發言人莫爾斯說，由於這是技術性調整，這項宣布不至於對本公司 2024 年財務展望，或我們在 2022 年 11 月投資人日允諾的長期目標，進一步造成任何影響。

(首圖來源:官網)

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