2019 年動土，2020 年下半年完成無塵室安裝，日前還宣布將在 2022 年底導入極紫外光曝光設備 （EUV） 美光台灣台中 A3 廠區，10 日正式開放給媒體參訪。美光台灣新任董事長盧東暉指出，美光在台灣深耕 20 多年，目前是台灣投資最大的外商。而且，台灣美光當前擁有 1 萬多名員工，佔了全球 4 萬多名員工的 1/4 強，未來還將繼續加碼投資的情況下，就未來 2 至 3 年還將再增加 2,000 名的員工。
先前任職於處理器大廠英特爾，在半導體業界有 20 多年資歷，曾經經歷過邏輯晶片、NAND Flash 等產業的台灣女婿盧東暉 10 日首次與媒體首次見面時指出，自 2022 年開始擔任美光台灣董事長職務以來，非常感謝美光給他這個機會跟同事共同學習。而他希望延續與發展過去美光在台灣的投資與合作之外，他也提出未來努力的三大目標，就是包括加速先進製程量產、強化供應鏈、以及培育人才三大部分。
盧東暉強調，台灣與日本同為美光為重要的 DRAM 生產據點。其中，在台灣的部分，當前美光領先業界的 1 ɑ（alphad） DRAM 製程技術就已經開始在台灣進行生產，而下一代 1 β（beta） DRAM 製程技術也將持續維持業界領先的優勢，並預計日本量產後，將會把 1 β（beta） DRAM 製程技術轉移到台灣生產，屆時台灣與日本都會成為該製程技術的生產基地。
另外，美光台灣也預計在 2022 年底在位於台中的 A3 廠導入極紫外光曝光設備（EUV），用於1 γ （gamma） DRAM 製程技術的生產上，並預計將會在 2024 年開始進行量產。這意味這美光在台灣將將 1 γ （gamma） DRAM 製程技術設置研發走廊，成為全球該項技術的量產中心，未來持續發展 DDR5、LPDDR5、HBM 等相關產品上，這也將使得美光的技術持續在全球產業持續領先。
盧東暉進一步強調，當前 1 ɑ（alphad） 及 1 β（beta）DRAM 製程技術在美光評估之後，認為以現有技術樹就可以達到這樣的水準，因此才會在 1 γ （gamma） DRAM 製程技術的節點上導入 EUV 設備。而且，EUV 設備非常昂貴且複雜，考量機器可靠性、光罩、人才等相關生態系統趨於成熟，相信在 1 γ （gamma） DRAM 製程導入 EUV 是相當好的時機，會是技術、性能與成本最佳組合。至於，在導入 EUV 之後的耗電問題，盧東暉也表示，會進一步與政府相關單位進行討論，並結合供應鏈廠商一起做到使用綠能，節能減碳的目標。
事實上，美光台灣台中 A3 廠本身就符合節能減碳的綠建築規範，除設計每年能節電 9,000 萬度，相當於 25,685 個台灣家庭的全年用電之外，A3 廠總用水量的 75％ 皆能重複利用和回收。每年可以節省多達 1,630 萬立方公尺的水，足以填滿 6,500 個奧運級游泳池。另外，A3 廠屋頂設置太陽能板，可利用太陽光獲取額外電力，基礎設施也經過特別設計，可收集雨水用於不同用途。
而在被問題針對短期產業景氣的問題時，盧東暉表示，自從他 2000 年進入半導體產業以來，產業從來沒有持續都是好景氣的情況，以他的經驗來說，這應該是他所經歷的第六次市場波動狀況。因此、雖然短期內可能會有震盪，不在全球加速數位化的情況下，拉抬記憶體市場的長期發展。其中包括車用、工業與資料中心都是預期成長快速的市場。
（首圖來源：科技新報攝)
