面對當前市場對於記憶體的需求，美商記憶體大廠美光 (Micron) 指出，2021 年美光的資本支出將達 90 億美元，除了希望能因應市場需求之外，也希望進行擴廠與新技術的採用。至於，針對導入 EUV 時程的問題，美光則是強調已經進行先期的測試，未來希望在最佳的時間點上導入。
美光執行副總裁兼事業長 Sumit Sadana 在 ｢2021 前瞻技術應用暨市場展望｣ 為主題的線上媒體團訪中表示，2021 年美光本支出達 90 億美元的目標，就是希望供應可以正好符合市場上面對於位元需求的成長，不管是在 DRAM 或者是 NAND 的部分，美光都會持續透過資本支出來支援市場的需求。而針對 2021 年目前的預期是，DRAM 的成長會在百分之十幾，約 15%-19% （High teens），對於 NAND 的成長則預估大概在 30% 左右。美光的資本支出也是會希望能夠因應市場的需求，希望美光的產出能夠符合市場需求。
除此之外，美光的一部分資本支出也會讓我們用來可以有更多的晶圓廠空間，更多的無塵式空間，因為每一代新的技術會使用到的工具、基台都越來越多。美光希望所有的晶圓都是在最好的狀態下開始生產，所以也會運用這方面的技術。另外，還有一部分的資本支出會用來擴充美光內部做封測的一些設施，除了自己的封測產能之外，其他的部分也會持續仰賴供應商。
另外，在何時導入 EUV 進行生產的問題上，Sumit Sadana 強調，美光持續在評估 EUV 的技術，也跟生產 EUV 機台的廠商合作。目前是處在研發的模式之下，因此一直在評估什麼時候是最佳的時機。當 EUV 為最具成本效益、最具經濟效益的方式的時候，美光便會將 EUV 技術納入產品組合裡面。
另外，美光向來的紀錄就是一直都能夠引領業界的技術，特別是在使用多重光罩進行微影蝕刻的部分。所以，美光在 DRAM 的部分，在不同的節點上都可以更有成本效益。因為美光在不同部分都做了許多的技術研發，不斷地反覆運算，所以美光也是全球最創新的 20 大的公司，擁有的專利數也是數一數二的，使得美光有非常好的技術。而剛剛說到可以使用多重光罩做微影蝕刻，因為這方面的技術非常成熟，所以美光會覺得不需要過早引進 EUV 的技術。但是，當然還是持續在評估，持續地在研發，等到美光認為採用 EUV 的技術可以提供絕佳成本效益的時候，到時候就會考慮將它納入美光 DRAM 的製程。
(首圖來源:官網)
