相較於南韓半導體產業最早開始採用 EUV 曝光技術，在台灣相關產業包括記憶體與晶圓代工採用的時程相對落後。不過，根據南韓媒體《BusinessKorea》的最新報導，近期因為在台灣的相關半導體企業在加緊投資 EUV 曝光技術的情況下，如此將會進一步擴大競爭優勢。
報導指出，目前為投資台灣最大外商的美商記憶體大廠美光科技 (Micron)，日前除決定於 2021 年年底在其美國總部安裝 ASML 最新的曝光設備 NXE:3600D 之外，美光還正計劃在其設於台灣台中的 DRAM 工廠安裝相同的 EUV 曝光設備。而這些動作代表著美光科技將在台灣生產第一顆 EUV 技術的 DRAM，並且持續的在台灣增加投資。
除了美光科技積極部署 EUV 曝光技術之外，當前全球 DRAM 產業第排名四大的台灣南亞科技也於 2021 年 4 月宣布，將投資新台幣 3,000 億元在新北市興建內含 EUV 曝光設備的 DRAM 產線，而且該產線預計 2024 年投入量產營運。
而除了記憶體產業之外，晶圓代工龍頭台積電在 EUV 曝光設備產業的影響力正在不斷增加當中。2021 年第 2 季起，採用 EUV 曝光設備的的 7 奈米及更先進製程技術已經占公司總營收的 49%，而且，台積電也正從曝光設備廠商 ASML 採購更多的 EUV 曝光設備，並加大相關研發投入。這當中包括了台積電透過自行生產 EUV 光罩，以進一步達成了良率和製程效率的提升。
報導強調，南韓三星全球首家採用 EUV 曝光技術的半導體企業，並且在 2019 年首次進行量產。不過，如今正在大規模發展 EUV 技術的則是三星的競爭對手美光科技、台積電等在台灣半導體企業。對此，相關的南韓市場專家舊指出，這種基礎設施的持續擴張，預計將為台灣的半導體產業帶來更強大的競爭優勢。
(首圖來源：科技新報攝)
