荷蘭政府今日正式公布最新半導體設備管制措施，要求先進晶片製造設備業者，出口 DUV（深紫外光）曝光機都必須申請許可，雖然相關管制措施沒有提到中國或 ASML（艾司摩爾），但是相當於限制 ASML 的 DUV 曝光機出口到中國，並預計管制措施將在 9 月 1 日生效。
荷蘭外貿部長施萊納馬赫（Liesje Schreinemacher）表示，荷蘭政府採取半導體設備管制措施，主要是出於國家安全考量，受影響的企業現在知道自己的立場是件好事，因為這樣就能及時適應新的規定。
荷蘭政府祭出最新半導體設備管制措施，雖然具體沒有提到中國或 ASML，但是因為 ASML 是半導體供應鏈關鍵廠商，幾乎壟斷先進晶片製造設備的市場，因此管制措施要求 ASML 出口 DUV 光刻機到中國都必須事先申請許可，等於限制 ASML 三種型號的曝光機出售給中國。
管制措施鎖定的是 ASML 三款 DUV 光刻機，型號為 TWINSCAN NXT：2000i、NXT：2050i 和 NXT：2100i，屬於 ASML 第二先進的設備，而最先進的極紫外光曝光機（EUV）已在今年 3 月限制對中國出口。
管制措施的消息衝擊 ASML 股價一度跌逾 2%，但是 ASML 之前就有發表聲明表示，未來 ASML 要出口最先進的 DUV 設備時都必須向政府申請許可，而相關措施對 2023 年度，甚至更長期的財務展望，並不會有重大的影響。
美國從 2022 年 10 月開始就以國家安全為由，限制企業將晶片製造設備出口到中國，以防範技術被用來強化中國軍事力量，並推動日本與荷蘭跟進，其中日本針對 23 項設備的限制令將在 7 月下旬生效，而荷蘭則在今日公布管制措施，等於限制 ASML 出口 DUV 曝光機到中國。
（首圖來源：shutterstock）
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