根據外媒報導，中國半導體企業正專注於採用深紫外 (DUV) 曝光技術的半導體生產技術發展上。原因在於中國的半導體企業目前受制於相關的國際協定，仍無法購買用於生產更先進半導體製程的極紫外 (EUV) 曝光設備。
報導指出，中國本土最大晶圓代工廠中芯國際近日決定，將與荷蘭半導體設備廠艾司摩爾 (ASML) 的合約延長至 2022 年，並增加 DUV 設備的進口。根據 《中國經濟日報》 的報導，中芯國際正藉由增加對 ASML 的 DUV 設備的採購，以提高其利用 DUV 曝光設備來生產半導體的技術競爭力。
中芯國際自 2021 年初開始與 ASML 談判擴大 DUV 設備採購規模。不過，美國政府對半導體設備監管的持續擴大，擾亂了中芯國際對 DUV 設備的採購。然而，由於現階段因為確認 DUV 設備被排除在美國政府的禁令之外，這使得中芯國際決定增加從 ASML 進口 DUV 曝光設備。目前，ASML 有 30% 的營收來自中國，其中大部分就是向中芯國際銷售 DUV 設備所獲得。
報導強調，與用於 10 奈米以下先進製程的 EUV 曝光設備不同，過去 DUV 曝光設備用於相關的成熟製程中。因此，它主要用於生產汽車的電源管理晶片 (PMIC) 和微控制器 (MCU) 這些不需要先進製程的產品上。然而，半導體製造商已經開發出更先進的技術，使得晶圓製造商也可以使用 DUV 曝光設備來生產 10 奈米附近相關節點製程的產品。目前，包括台積電和南韓三星也都在使用 DUV 曝光設備來生產 10 奈米附近相關節點製程的產品。
報導還進一步指出，隨著 EUV 設備的進口中國已經不可能，使得中國企業開始將目光從更先進的 EUV 製程技術，轉移到了 DUV 製程技術上。而且，因為中國半導體企業們無法在 10 奈米以下生產更有利可圖的產品，這使得當前他們的目標就是以提高 14 奈米或更大製程的產品競爭力為主。而根據統計，截至 2020 年底，這些使用成熟製程的產品，就佔了整個系統半導體市場銷售金額的 73%。
而目前中芯國際已決定到 2023 年前，斥資 110 億美元擴大其在深圳和上海的 DUV 生產線。根據先前的媒體報導，中國半導體企業目前使用 ASML 的 DUV 相關設備者約有 1,000 件之多。而為了滿足這些需求，中國半導體企業也正加緊從日本半導體設備企業購買相關的二手設備。根據日本經濟新聞先前的報導指出，中芯國際等中國半導體企業因為積極從日本半導體設備商購買二手半導體設備，這使得二手半導體設備的市場近期大幅成長當中。
(首圖來源：ASML)
